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第71章 山巍03（第2页）

那人也很诚恳：【兄弟，别捣乱，你看你是认真问的吗？】

研究生擡头看他标题，【求问14nm极紫外光刻机光源系统优化怎麽实现？】。

就，没毛病啊。

【兄弟，你真觉得自己的问题没毛病？ASML的14nmEUV刚官宣没多久，你觉得你能在国内不知名论坛里求到答案？】

“……”

研究生嘀咕一句：“说不定呢。”

研究生还真傻逼兮兮的跑去百度了。

回车键一按，连他都忍不住捧腹大笑，他果然是被导师布置的课题整神经了，居然跑去百度！

但凡稍微深入点的学术问题都绝对不可能百度出来，何况是根本没有人能够回答的光源优化！

研究生知道求不到答案，他就是被这问题烦了将近一个月，烦到发疯罢了。

努力平心静气的研究生正要X掉网页，擡头一看却瞥见底下有一行字，猛地转回去看：“13。5nm光源系统设备技术被攻破？专利申请？——卧槽槽槽！！开玩笑的吧？”

他赶紧点开网页，发现是天眼察，专利发明者第一个名字是……盛明安？

“盛丶盛神？”

专利研究单位是蓝河科技，不是什麽光机所丶光电所，而是名不见经传的科技公司！

研究生赶紧登陆国知网搜索关键字，真的看到了13。5nm光源系统设备技术被攻破的专利申请！

“卧槽……比ASML还高0。5nm，盛神牛逼了。”

研究生回头看向电子发烧友论坛，露出空虚的笑容，拿起手机，重新开贴丶编辑文字，上传国知网图片，发送。

然後面带微笑，安静等待即将炸锅的网络。

***

约定的十日之期很快到来，几个半导体龙头企业里的实权人物联系曹书-记，询问他的解决之法是什麽。

曹书-记含蓄的邀请他们参加下周的华国国际半导体技术大会。

衆人：“？？”

曹书-记：“解救鸿芯骗局，使津市半导体産业起死回生的办法就在国际半导体技术大会！”

衆人都不是蠢货，很快通过联想猜出技术大会很可能会颁布某项足以将津市半导体産业拉出泥淖的技术。

但那该是什麽样的技术才能做到？除非是——

堪比EUV的高阶光刻机！

***

六月下旬，华国国际半导体技术大会（CSTIC）在申市国际会议中心召开。

华国国际半导体技术大会是华国电子商会（CECC）和国际半导体设备与材料协会（SEMI）共同合作举办的，华国最全面的丶最大的一个半导体技术大会，会议讨论内容涵盖半导体设备和技术的方方面面，受邀人员有国内外知名的半导体技术人才和专家。

大会一共有两个主要的环节，一是颁奖会，二是半导体技术相关的主题演讲，由来自设备丶集成设计丶光刻和材料等方面的专家进行演讲，分享他们的最新技术。

该技术大会如期到来，而今年的参赛者比往年多出整整两倍，在线观看人数超过往年的三四倍，令得知数据的主办方也惊讶不已。

他们不知道的是所有人关注CSTIC的原因是蓝河科技日前在围脖官网发布的博文：蓝河科技工程师将于CSTIC公开演讲13。5nm光源系统设备技术——

当然不是真的大方分享技术，说白了就是去一个国际化的舞台开始他们的表演。